跳到主要內容區
您的瀏覽器不支援JavaScript功能,若網頁功能無法正常使用時,請開啟瀏覽器JavaScript狀態
國立中央大學光電科學研究中心
:::
Menu
最新消息
中心簡介
沿革紀要
組織一覽
研究任務
研究重點
相關法規
短片介紹
中心成員
研究團隊
行政人員
儀器設備
微光電實驗室
磊晶實驗室
固態照明實驗室
奈米實驗室
離子佈植機台
光罩製作機台
產學合作
可移轉技術
產學聯盟
建教合作
其他
聯絡我們
網站導覽
:::
首頁
儀器設備
光罩製作機台
光罩製作機台
光罩製作機台
儀器中文名稱:雷射光罩製作系統
儀器英文名稱:
Laser Direct Write Image System
儀器英文簡稱:
Mask
儀器廠牌及型號:
HIMT DWL66s
儀器購置日期:
2003
年
12
月
儀器功用:製作四吋和五吋玻璃光罩
收費標準
(
每十小時
)
:
(
國科會
)7,100
元;
(
非國科會
)10,000
元
服務時間:週一至週五
AM8:00~PM6:00
聯絡人:光電中心張毓伶小姐
(
分機
57910)
:::
儀器設備
微光電實驗室
─ 實驗室介紹
─ 機台介紹
─ 實驗室管理訓練
磊晶實驗室
固態照明實驗室
奈米實驗室
離子佈植機台
光罩製作機台
登入成功
Close (Esc)
Share
Toggle fullscreen
Zoom in/out
Previous (arrow left)
Next (arrow right)